青草新吾の惺々著考 glocaleigyo

生産財の青草新吾1はリタイア。シニアの青草新吾2は複業で貢献を目指す。

液晶パネル製造のTFT(薄膜トランジスタ)パターニングで行われる成膜に関し、神戸製鋼とコベルコ科研が供給するアルミニウム・ネオジウム合金のターゲット材が世界シェア8割で今や業界標準とのことです。

液晶パネルの画素に付くTFT(薄膜トランジスタ)のパターン形成では、ガラス基板への成膜エッチングがくり返されますが、最初の成膜で使われるのがアルミニウムにレアメタルネオジウムを添加した[Al-Nd合金ターゲット材料]とのことです。TFTゲート配線の成膜を従来のタンタルやクロムからアルミに材質変更できたことで抵抗値が低くなりました。アルミゲートがITO(インジウム・スズ酸化物)膜と接すると酸化してしまうので、モリブデンやクロムのバリアー層で被覆した2層構造にしてあるそうです。